吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理： 混懸液研磨分散機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。

SGN頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉速高達14000rpm，剪切力強，是國內設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結構、分散盤的結構，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可供工業(yè)化生產24小時運行。分體式結構，通過皮帶提速，可根據調節(jié)轉速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉速，合理的剪切力不易導致產品變性失活。

GMD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質混合。德國進口分散乳化機由定/轉子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

中成藥管線式研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備，是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機一體化的設備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。 膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差，當物料通過膠體磨之后，磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，再經過分散機分散，效果不是很好。而GMD研磨分散機的話，物料磨細后

【SGN轉移因子研磨分散機的簡介】 高剪切研磨分散機轉移因子膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改

高剪切除草劑研磨分散機的一般生產工藝 通常是由液相構成，其中懸浮著活性劑。配方中還包括一些添加劑，如濕化劑、懸浮劑、消泡劑等。粉體和液體混合之后，再進一步研磨，以達到要求的細度（通常為5 um以下，用于噴涂），產品也有可能直接送入噴霧干燥機。

SGNGMD2000系列農藥水乳劑研磨分散機特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構的研磨定轉子，的表面處理和優(yōu)質材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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